主要技术指标:
基片尺寸:1100×1300×0.5~1.1
生产节拍:30S/架
可完成膜系:
低温ITO、金属膜、氧化物膜生产线特点:
低成本、高效率,30s节拍,机械手自动上下片,广泛应用于TP、LCD、TFT、FPD、PDP等诸多行业。